全自動(dòng)離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí)，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進(jìn)行清潔，之后試樣復(fù)原，再進(jìn)行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。
全自動(dòng)離子濺射儀的使用注意事項(xiàng)：
1、一般作業(yè)間隔可調(diào)，間隔越近，濺射速度越快，但熱損害會添加。
2、離子流的大小通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子炮擊樣品(陽極)發(fā)生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速度越慢，原子結(jié)晶晶粒越細(xì)微，電子炮擊樣品發(fā)生的熱量小。
3、加快電壓為固定,也有可調(diào)的，加快電壓越高，對樣品熱損害越大。一般運(yùn)用金屬靶材的正比區(qū)域。
4、有些熱敏樣品，需要對樣品區(qū)進(jìn)行冷卻，水冷或許帕爾貼冷卻；也能夠選用磁控設(shè)備，像電磁透鏡相同把電子違背樣品。經(jīng)過這樣的改造，當(dāng)然會添加很高的成本。能夠在白臘外表濺射一層金屬，而沒有任何損害！
5、真空中的雜質(zhì)越多，鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定，能夠選用空氣作為等離子氣源，而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
6、氣體原子序數(shù)越高，動(dòng)量越大，濺射越快，但晶粒會較粗，連續(xù)成膜的膜層較厚。
7、保持真空室的潔凈對高質(zhì)量的鍍膜有很大優(yōu)點(diǎn)。
8、不要讓機(jī)械真空泵長期保持極限真空，否則簡單反油。
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